ASML的EUV光刻機已經成為7nm以下製程的關鍵了,三星、台積電、Intel都在購買單價高達10億元的EUV光刻機用於生產。除了CPU之外,記憶體製程也會逐步導入EUV光刻機,三星之後SK hynix也要這麼做。

據韓國媒體報導,全球第二大DRAM供應商SK hynix已經在研發1a nm製程的記憶體,內部代號“南極星”,具體節點大概在15nm,預計會導入EUV光刻機生產。對記憶體來說它跟CPU邏輯製程一樣面臨著需要微縮的問題,EUV光刻機可以減少多重曝光製程,提供製程精度,從而可以減少生產時間、降低成本,並提高性能。

不過記憶體使用EUV製程問題也不少,首要問題就是EUV光刻機售價太高,10億一台,還要考慮到維護費用,所以初期要承擔不小的成本壓力。目前SK hynix最先進的記憶體製程主要是1y、1z nm,今年下半年這兩種製程將占到40%的產能比重。

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